우리나라는 반도체와 디스플레이 강국이지만, 수십억 원이 넘는 첨단 장비는 전량 수입에 의존하고 있는데요.
이런 가운데 국산화가 가능한 차세대 공정 장비 핵심 기술이 개발돼 그동안 소자 기술에만 집중된 국내 반도체 산업의 불균형 해소에 도움을 줄 것으로 기대됩니다.
이정우 기자입니다.
[기자]
어떤 물질이 거쳐 온 과거가 현재 상태에 영향을 주는 현상을 '히스테리시스', 즉 이력현상이라고 합니다.
국내 연구진이 50여 년 동안 학계에서 풀지 못했던 플라스마의 히스테리시스 원인을 규명하고, 이를 제어할 수 있는 기술을 개발했습니다.
플라스마를 이용하는 반도체나 디스플레이 공정에서 품질을 떨어뜨리는 고질적 문제를 해결해 생산성 향상에 도움을 줄 전망입니다.
[이효창 / 한국표준과학연구원 반도체측정장비팀 : 히스테리시스가 플라스마 내에 있는 전자에너지 분포에 기인한다는 것을 알 수 있었으며, 이런 정밀 측정법을 기반으로 해서 규명을 했습니다.]
연구진은 정밀 측정법을 이용해 히스테리시스의 원인이 플라스마 내 전자에너지 분포에 의한 차이라는 사실을 최초로 밝혔습니다.
이와 함께 특정 비활성 기체를 주입하거나 최적화된 공정에서 안정적으로 플라스마를 사용할 수 있는 제어 기술도 개발했습니다.
플라스마를 안정적으로 제어할 수 있는 이 기술은 반도체 시장의 양대 산업인 소자와 장비산업의 동반 성장을 이끌 것으로 기대됩니다.
반도체 시험 등에 사용되는 고부가가치의 첨단 장비는 그동안 전량 수입에 의존해 왔습니다.
하지만 이번 기술 개발로 장비를 국산화함으로써 반도체 산업에 새로운 전기를 마련할 수 있게 됐습니다.
[김정형 / 한국표준과학연구원 반도체측정장비팀 : 플라스마가 사용되는 공정에 이런 결과를 적용함으로써 실제 반복성이나 재현성이 있는 그러한 공정을 안정적으로 확보하는데 큰 기반이 되는 기술입니다.]
이번 연구 결과는 응용 물리 분야 국제학술지 '어플라이드 피직스 리뷰' 초청 총설 논문으로 실렸습니다.
YTN 이정우[ljwwow@ytn.co.kr]입니다.
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